公司簡介
一、真空工況對潤滑材料的特殊要求
半導體製造、真空鍍膜、質譜儀、電子顯微鏡、空間載荷以及核工業等領域，普遍工作在 10⁻³ Pa 乃至 10⁻⁹ Pa 量級的高真空或超高真空環境中。在如此低氣壓條件下，普通工業潤滑脂會因蒸氣壓偏高而持續揮發，產生兩個嚴重後果：一是基礎油不斷逸失，導致脂體硬化、潤滑膜失效；二是揮發組分凝結在光學元件、反應腔壁、晶圓表面或精密傳感器上，造成不可逆的污染。因此，真空環境下的潤滑材料，必須同時滿足極低飽和蒸氣壓、極低出氣率、長壽命與化學惰性等多重苛刻要求。塞維歐（Seivio）Vaculub 系列真空潤滑脂，正是面向上述工況打造的一類專業潤滑解決方案。
二、產品體系與配方思路
塞維歐 Vaculub 系列依託母公司比瑟奴在真空與航天潤滑領域的多年技術積累，覆蓋從通用真空到超高真空（UHV）的完整應用譜系。系列產品根據基礎油化學結構差異，主要包含三類配方：
· 全氟聚醚（PFPE）型：以全氟聚醚爲基礎油，配合 PTFE 等氟化稠化劑，分子鏈中不含 C—H 鍵，化學惰性極強，可耐強氧化劑、酸鹼、活性氣體與等離子體衝擊，是超高真空、強氧化與半導體工藝的首選；
· 合成烴（PAO/酯類）型：以高黏度合成烴或合成酯爲基礎油，搭配鋰複合或聚脲稠化劑，蒸氣壓低、潤滑性好，適合常規高真空機械傳動；
· 硅油（甲基/苯基硅油）型：以低揮發硅油爲基礎油，配合二氧化硅或皁基稠化劑，半透明膏狀，常用於真空法蘭、磨砂接頭、O 形圈密封與玻璃旋塞等靜態密封場合。
不同型號在飽和蒸氣壓、溫度範圍、耐輻射性與對橡膠/塑料的相容性上各有側重，可根據工況自由匹配。
三、核心性能特點
1. 極低飽和蒸氣壓。Vaculub 主力型號在 20℃ 下的蒸氣壓可低至 10⁻⁷～10⁻¹² Pa 量級，部分超真空配方可在 10⁻¹⁰ Pa 真空度下長期穩定工作，有效避免對真空腔體的污染。
2. 出氣率與殘餘氣體潔淨。通過嚴格的基礎油精製與脫氣工藝，產品在標準 TGA 與 RGA 測試中表現優秀，殘餘氣體以惰性組分爲主，不影響真空度建立與質譜本底。
3. 寬溫適應性。常規型號工作溫度覆蓋 −40℃ ~ +200℃；專門的低溫真空型可耐受 −200℃ 以下深冷工況，高溫型則可在 +250℃ 以上短時使用，滿足空間冷熱循環及真空熱處理爐的需求。
4. 化學惰性與抗輻射。PFPE 系列對氧氣、臭氧、HF、Cl₂ 等活性氣體幾乎完全惰性，並具備良好的耐 γ 與中子輻射性能，適合核工業、加速器與衛星載荷。
5. 優異的密封與潤滑雙重功能。脂體細膩、附着力強，既能在磨砂接頭、O 圈和真空法蘭上形成緻密密封膜，也能在軸承、絲桿、齒輪等動密封部位提供持久潤滑。
四、典型理化指標（參考）
項目 | 典型值 | 測試方法 |
外觀 | 白色至淺黃色 / 淺琥珀色膏體 | 目視 |
基礎油類型 | PFPE / PAO / 硅油 | — |
NLGI 稠度等級 | 1 ~ 3 號 | ASTM D217 |
20℃ 飽和蒸氣壓 | 10⁻⁷ ~ 10⁻¹² Pa | Knudsen 法 |
使用溫度範圍 | −40℃ ~ +200℃（特種型可擴展） | — |
滴點 | ≥ 250℃ / 無熔點（PFPE） | ASTM D2265 |
出氣總量 TML | ≤ 1.0% | ASTM E595 |
可凝揮發物 CVCM | ≤ 0.1% | ASTM E595 |
注：以上數值爲 Vaculub 系列各類型號的典型參考區間，不同型號差異較大，具體請以塞維歐官方最新技術數據表爲準。
五、典型應用領域
Vaculub 系列廣泛應用於以下場景：半導體晶圓製造與 CVD/PVD 鍍膜設備的真空腔閥門與傳動機構；顯示面板與光學鍍膜線的真空輥軸、O 圈密封；電子顯微鏡、質譜儀、光刻機的精密真空進樣口、磨砂接頭與旋塞；真空熱處理爐與離子注入機的高溫真空軸承；航天器、人造衛星與火箭系統的關鍵運動副；加速器、聚變裝置與核工業管路閥門的耐輻射密封；以及實驗室真空泵、分子泵周邊的常規潤滑與密封等。
六、使用與儲存建議
使用前應徹底清除舊脂殘留與污染物，並儘量避免不同基礎油體系混用（尤其 PFPE 不可與烴類或硅基脂混合）。塗抹宜薄而均勻，過量塗覆不僅浪費產品，還可能在抽真空時產生額外出氣負載。產品應密封儲存於陰涼、乾燥、無塵環境中，溫度建議低於 30℃，保質期一般爲 3 ~ 5 年。
七、結語
真空環境下的每一次潤滑選型，都是對潔淨度、可靠性與壽命的綜合考量。塞維歐 Vaculub 真空潤滑脂以低蒸氣壓、低出氣率、寬溫域和強化學惰性爲核心優勢，爲半導體、航天、科研儀器與高端工業裝備提供了完整的真空潤滑與密封方案。對追求極致潔淨與長期穩定運行的真空系統而言，選對一支合適的真空脂，就是爲整套裝備的精密性與可用性上了一道堅實的保險。
