Vaculub B042 抗EUV光源辐射润滑脂
描述:
塞维欧Vaculub B042 抗EUV光源辐射润滑脂 是由高纯度的直链全氟聚醚油,纳米级超精细PTFE稠化。并添加特种抗腐蚀添加剂精制而成的。是专用于EUV 极紫外光刻设备腔体内部、在超高真空与 EUV 极紫外高能光子持续辐照环境下工作的特种洁净润滑脂。
优势:
- 蒸气压极低挥发性低,不释放碳氢小分子,防止污染 EUV 光学系统;
- 在 EUV 光长时间照射下,分子不容易裂解,不会快速变稀变硬结焦;
- C-F键键能极高,可直接抵御EUV高能光子轰击,分子结构不易降解;
- 耐等离子体、抗光刻腔内活性气体,不腐蚀金属、光学元件;
- 极低的离油度,基油的飞散减少,可以抑制基油飞散造成的晶圆污;
- 无硅无卤素,不会出现“蠕变迁移”问题,避免污染EUV光学镜片;
- 具有极高的化学稳定性,不与酸、碱和高活性物质发生反应。
产品参数:
性能 | 数据 |
颜色 | 目测 |
质地 | 光滑 |
气味 | 温和 |
比重,@ 77°F(25°C) | 1.95 |
滴点,ASTM D-2265 | 无 |
粘度,cSt @ 40℃ | 400 |
锥入度,ASTM D-217 @ (25℃) | 265-295 |
蒸汽压,20℃,Pa | 5x10-14 |
工作温度,℃ | -30~280 |
保质期(未打开全密封) | 5年 |
所给数据资料均为典型代表值,允许有不影响其性能的轻微变化,在正常生产过程中可能有不影响产品性能的调整,此处包含的信息如有更改,恕不另行通知。 |
应用:
适用于EUV 光刻机真空腔体内精密运动部件:晶圆台、掩膜台、直线导轨、精密滚珠轴承、真空丝杆、真空阀门转轴等。
包装:
1kg/罐装 订货号 381995
存储:
干燥处